冷軋鉬片是通過室溫軋制工藝加工而成的高純度鉬金屬薄板，其鉬含量通常達到99.95%以上(Mo-1級別)。這種特殊加工方式使得材料內部晶粒結構更致密，相較于熱軋產品具有更優越的表面光潔度(RA≤0.8μm)和尺寸精度(厚度公差±0.01mm)。需要重點關注的是其獨特的機械性能組合，特別是經過冷加工強化的抗拉強度可達800MPa以上，同時保持良好延展性(延伸率≥15%)，這種特性在高溫元件制造領域具有不可替代的優勢。

在實際應用中，冷軋鉬片最顯著的特征體現在其優異的耐熱性能，熔點高達2620℃的特性使其成為真空爐發熱體、半導體支架等高溫環境的理想選擇。值得注意的是，經過特殊退火處理的O態板材(維氏硬度HV120-150)更易于深沖加工，而硬態H型(維氏硬度HV200-240)則更適合需要高剛性的結構件。這種材料對酸堿溶液(除王水外)表現出極強耐腐蝕性，但在400℃以上氧化環境中需要配合保護涂層使用。

從微觀結構來看，冷軋工藝形成的纖維狀織構使其具備各向異性特點，縱向與橫向的力學性能差異可達15%-20%。現代精密軋機可穩定生產0.02-3mm厚度的超薄帶材(寬度最大600mm)，表面經過電解拋光或堿洗處理后能達到鏡面效果。在光伏領域的應用尤其突出，作為CIGS薄膜太陽能電池的背電極材料時，其熱膨脹系數(5.1×10??/K)與玻璃基板能實現完美匹配。

質量控制方面，先進的金相檢測手段(如EBSD取向分析)可精確監控再結晶程度，避免出現脆性斷裂風險。對于要求嚴格的航空航天部件，往往采用電子束熔煉的原料錠(氧含量≤50ppm)來確保材料純度。隨著5G時代來臨，0.1mm以下超薄鉬片在散熱基板上的應用正呈現爆發式增長，這對其平整度(波浪度≤1mm/m)和導電性(電導率≥30%IACS)提出了更高要求。